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- 组合使用不同观察方法，可以在晶圆缺陷检测中看到更多细节 . . .
将明场和暗场观察结合在一起，可同时显示晶圆的颜色和集成电路（IC）图案，从而可使您快速发现潜在的问题，且节省了检测时间。 使用MIX观察的另一种有用的方法是将荧光和暗场结合在一起。 在半导体检测中，荧光照明通常用于检测残留的光刻胶颗粒。 然而，在使用荧光照明方法时，通常很难确定物体的位置。 好消息是，可以使用暗场找到物体的位置。 在晶圆检测中，通过MIX观察将荧光和暗场相结合，可以确定晶圆的位置，观察其图案形状，并发现不需要的抗蚀剂。 图5 将荧光和暗场观察结合在一起，改进了对集成电路（IC）图案和残留物的检测。 MIX照明的一个重要优势是定向暗场功能，它可使您控制照射到样品上的光量和光的方向。 16个LED灯可单独控制，以从任意方向倾斜照亮物体。
- 明 暗场图形缺陷检测设备示意图 - 2021年09月 - 行业研究数据 . . .
明 暗场图形缺陷检测：该类检测是基于光学成像技术对图形化的晶圆进行检测，明场是指照明光角度和采集光角度完全相同或部分相同，在光电传感器上最终形成的图像是由照明光入射晶圆表面并反射回来的光形成的；而暗场则是指照明光角度和采集光
- 晶圆表面缺陷检测现状概述 - CSDN博客
本文介绍了晶圆表面缺陷检测设备，重点讨论了有图案（明场与暗场）和无图案检测技术，强调了KLA在市场中的主导地位。 文章还提到了电子束设备如扫描电子显微镜和光学检测设备，如2D相机视觉检测，以及面临的挑战如快速自动对焦和图像处理算法
- 基于明暗场成像的多扫描方式图案化晶圆检测技术研究-学位 . . .
本文针对图案化晶圆缺陷尺度小、背景图案复杂等技术难点，搭建了多扫描方式明暗场图案化晶圆缺陷检测系统(Multi-scanning Patterned Wafer defect Detection system,MPWDS)，并研究了该系统中使用的相应技术，其中包括： 对图案化晶圆缺陷和表面
- 基于明暗场成像的多扫描方式图案化晶圆检测技术研究_陈世炜
基于明暗场成像的多扫描方式图案化晶圆检测技术研究_陈世炜 下载积分： 800 内容提示： 分 类 号：T H 7 4 1 单 位 代 码 ：1 0 3 3 5密 级 ：X ： 学 号 ：2 1 8 3 0 0 0 5士 学 位 论 文 lt．_：寒 蠢？
- 先进节点图案化晶圆缺陷检测技术 | 激光与光电子学进展 . . .
传统的晶圆缺陷检测方法包括明场、暗场及电子束成像方法，尽管能够覆盖绝大多数缺陷检测场景，但难以在检测精度、检测灵敏度和检测速度上取得较好的平衡。
- 科学网— 综述光学晶圆缺陷检测技术研究
通过与纳米光子学、结构光照明、计算成像、定量相位成像和深度学习等新兴技术的融合，图形化晶圆缺陷光学检测将再次焕发活力。
- 光大证券-机械行业研究-半导体设备研究系列之明暗场缺陷检测 . . .
两台明场检测BFI100 型设备订单，该型号设备主要用于65nm-180nm 的半导 体产线制程监控。 公司在有图形晶圆缺陷检测领域具有较大的发展潜力，有望加
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